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KZP-250G 振動(dòng)拋光機

簡(jiǎn)要描述:KZP-250G 振動(dòng)拋光機采用高頻微量振動(dòng)方式,對樣件表層進(jìn)行輕量精細拋光,盡量減少在拋光過(guò)程中的機械應力;適用于在各種材料上制備高質(zhì)量的拋光表面,包括電子背散射衍射分析 (EBSD) 應用、原子力顯微鏡(AFM)分析、電鏡(SEM)分析等前序樣品制備非常有效。同時(shí),振動(dòng)拋光因其優(yōu)異的機械-化學(xué)拋光效果,適合大部分材料的精拋和終拋,尤其適用于軟質(zhì)和韌性材料,如純鈦及鈦合金、純鋁及鋁合金、純銅。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-07-11
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:150

詳細介紹

品牌其他品牌尺寸(L*W*D)540×620×420mm
磨盤(pán)個(gè)數1個(gè)磨盤(pán)尺寸250mm
價(jià)格區間面議產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)
應用領(lǐng)域電子,冶金,航天,汽車(chē),電氣

KZP-250G 振動(dòng)拋光機

KZP-250G 振動(dòng)拋光機

 

產(chǎn)品介紹:

    KZP-250G型振動(dòng)拋光機采用高頻微量振動(dòng)方式,對樣件表層進(jìn)行輕量精細拋光,盡量減少在拋光過(guò)程中的機械應力;適用于在各種材料上制備高質(zhì)量的拋光表面,包括電子背散射衍射分析 (EBSD) 應用、原子力顯微鏡(AFM)分析、電鏡(SEM)分析等前序樣品制備有效。同時(shí),振動(dòng)拋光因其優(yōu)異的機械-化學(xué)拋光效果,適合大部分材料的精拋和終拋,尤其適用于軟質(zhì)和韌性材料,如純鈦及鈦合金、純鋁及鋁合金、純銅及銅合金、鎳基合金、高溫合金等。

     與傳統的振動(dòng)拋光機不同,本機通過(guò)彈簧板及磁吸合電機來(lái)產(chǎn)生左右方向的振動(dòng),由于彈簧板與振動(dòng)盤(pán)之間是有角度的,因而可以讓試樣在拋光盤(pán)內作圓周運動(dòng)。該結構可以產(chǎn)生幾乎水平方向的振動(dòng),極大限度地提高了樣品接觸拋光布的時(shí)間,在拋光過(guò)程對樣品沒(méi)有產(chǎn)生任何附加損傷層和變形層,可以有效地去除和避免浮凸、嵌入和塑性流變等缺陷。該機外觀(guān)新穎美觀(guān),操作簡(jiǎn)單,振動(dòng)頻率和振動(dòng)電壓可隨著(zhù)振動(dòng)強度自動(dòng)適應,可一次放置多個(gè)試樣,無(wú)需人員值守,用戶(hù)設定好參數后就可以離開(kāi),等待試樣自動(dòng)完成振動(dòng)拋光,廣泛應用于各大企業(yè)事業(yè)單位和科研院校。

 

產(chǎn)品特點(diǎn):

1.手動(dòng)自動(dòng)一鍵切換

2.自適應工件自動(dòng)搜頻

3.長(cháng)設置時(shí)間、一鍵滿(mǎn)足多種需求

4.整體機構振動(dòng)平穩,噪音低,壽命長(cháng)

5.無(wú)極調速加四擋定速,方便快捷滿(mǎn)足各種需求

6.強度范圍寬50-600任意設置,滿(mǎn)足多種零部件

7.充分利用懸浮液,清洗方便

8.夾持樣品范圍大無(wú)極調節

技術(shù)參數:

名稱(chēng)

規格

拋盤(pán)直徑

φ250

拋布直徑

φ250

振動(dòng)電壓

10-220V

振動(dòng)強度

50-600

振動(dòng)頻率

25-400HZ

設置時(shí)間

30000分鐘

樣品直徑

φ20-50mm

輸入電源

電壓:220V  頻率:50HZ

功率

1KW

外形尺寸

 500X610X365mm

重量

85kg


發(fā)貨附件:

名稱(chēng)

規格

數量

主機

個(gè)

1

夾持器

2

內六角扳手

個(gè)

2

背膠拋光布

個(gè)

2

懸浮液

1

說(shuō)明書(shū)

個(gè)

1

合格證

個(gè)

1

 

 

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